除了仅由ASML提供的EUV（极紫外）光刻系统外，三星电子与台积电在超微处理技术所需设备安全方面的竞争也日趋激烈。最好的例子是APMI（光化学图形掩模检查）系统和掩模制造商。这些是芯片制造的关键工具。当切屑工艺小于5纳米时，它们将决定生产率和质量。像EUV光刻系统一样，这两个仪器仅由单个制造商提供。据业内人士称，三星电子和台积电等全球主要芯片制造商都在激烈竞争，以确保超微制造工艺所需的先进设备优于其他竞争者。随着EUV光刻工艺已成为全球半导体行业制造下一代微芯片的关键工具，确保尽快获得ASML的EUV光刻系统的竞争已成为一个巨大的话题。 ASML是世界上唯一提供每单位价格超过1.37亿美元（1500亿韩元）的EUV光刻系统的公司。但是，除了EUV光刻系统外，还有其他高级系统由于缺乏供应商而难以购买。它主要包括一个基于电子束的写入器，可以在EUV掩模上打印电路布局，并且检查系统可以检查EUV掩模是否可用。电子束记录器起着“刷子”的作用。将集成电路的布局印刷到掩模上，这对于在光刻过程中将集成电路的布局印刷到晶片上是绝对必要的。由日本的NuFlare制造的电子束记录器当前被用于基于ArF的光刻工艺中。但是，NuFlare的电子束记录器很难在EUV环境中充分发挥其潜力。 EUV光刻工艺要求在单个掩模中快速印刷各种精细集成电路，而NuFlare的单束方法和单个E束印刷掩模图案将大大降低生产率。目前，出现了一种基于多束电子束的新解决方案，当24万个密集排列的电子束同时移动时，它将绘制图形。据报道，这种方法的生产率比单束方法要快得多，后者被认为是非常先进的。 EUV掩模的高科技检查系统也引起了人们的注意，因为它可以基于复杂的结构检查EUV掩模，这比当前使用ArF光源的检查系统更精确，更紧凑。这种新的检查系统在将面罩引入生产线之前和之后执行检查。业界将该系统称为APMI系统。问题是，像EUV光刻系统一样，多光束写入器和APMI系统也由单个公司制造。奥地利的IMS和日本的Lasertec是世界上唯一分别提供多光束记录仪和EUV面罩检查系统的公司。据报道，他们的年生产能力甚至没有达到10个单位。该能力远远低于ASML的能力，后者每年生产35至40台EUV光刻机。结果，对于半导体制造商而言，有必要建立基于EUV的工艺的大规模生产系统（小于5纳米），以确保生产率和质量，但他们可能无法确保这些系统的正常运行。时间，这已经成为他们的问题。难题。三星电子和台积电正在寻求实施超微制造工艺，因此有望成为首批购买此类系统并进行激烈竞争的公司。据报道，台积电一直在积极提高其与基于EUV的5纳米工艺相关的生产能力，并且在尝试提前购买此类系统方面非常活跃。 “最近，ASML的EUV光刻系统的生产能力已经优于写入器和APMI系统。”一位业内专家说。 “就像日本政府长期对Lasertec进行投资并在帮助Lasertec开发下一代半导体设备中发挥重要作用一样，韩国政府也必须积极促进下一代半导体设备技术的发展。”